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“超润之星”高性能酸铜电镀工艺
一、 工艺特点:
n 具有特别优秀的填平性能，且出光速度快、；
n 镀液走位性能极好，低电位区的填平性能尤其突出；
n 镀液稳定，分解产物少, 长期使用不会出现故障;
n 镀层没有针孔或麻点，具有良好的耐蚀性能；
n 特别适用于高档的卫浴洁具、灯饰件、塑料件的电镀
二、 镀液组成:
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镀液组成及工艺条件 |
适用范围 |
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硫酸铜 (CuSO4·5H2O)
纯硫酸 (H2SO4)
氯离子 (Cl - ) |
190 – 240 克/升
60 – 70 克/升
60 –140毫克/升 |
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开缸剂 MU
光亮剂 A
光亮剂 B |
4 – 5 毫升/升
0.4 – 0.5 毫升/升
0.2 – 0.4 毫升/升 |
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三、添加剂的作用：
开缸剂 MU： 开缸剂 MU不足时，低电位区光亮度不够理想；开缸剂 MU过量时，低电位区会产生雾状镀层。
光亮剂 A： 光亮剂A含量过低时，整个电流密度区的镀层填平度下降； 光亮剂 A过量时，低电位区的填平度会突然变差，形成明显的分界。
光亮剂 B： 光亮剂 B含量不足时，镀层容易烧焦；而光亮剂 B过量时，会引起低电位区起雾。
四、添加剂的消耗：
开缸剂 MU ： 30 – 50 毫升/1000安培小时
光亮剂 A ： 50 – 70 毫升/1000安培小时
光亮剂 B ： 30 – 50 毫升/1000安培小时
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